プレスリリース



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毎年恒例となりました弊社フォトマスクセミナーを開催することになりましたのでご案内申し上げます。416日(火)にパシフィコ横浜で開催される「Photomask Japan 国際ホトマスクシンポジウム」のFPDセッション終了後、それに引き続くかたちで、パシフィコ横浜内にございますヨコハマグランドインターコンチネンタルホテルにて大型マスク最新技術動向についてご紹介をさせていただきます。 

今回のセミナーでは、ミドルレンジからローエンドのディスプレイマスク用途向けでコスト効率の良い最新のマスク描画装置をはじめとして、弊社の技術開発状況をご紹介します。また、IHSマークイットよりチャールズ・アニス様、キヤノン株式会社より大嵜美紀様をゲストスピーカーとしてお迎えし、最新の市場動向と技術についてご講演いただく予定です。

日時:2019416日(火)15:3018:00
場所:ヨコハマグランドインターコンチネンタルホテル
参加費:無料 ※満席に達する事前登録のお申込みを頂きましたので締切らせて頂きました。
言語:日本語/英語(同時通訳付き)
<本セミナーに関するお問い合わせ>
マイクロニックテクノロジーズ株式会社
担当: 梁瀬
E-mail: emiko.yanase@mycronic.com
TEL: 042-433-9400



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