Prexision-MMS

掩膜计量系统

Prexision-MMS

掩膜计量系统

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掩膜计量系统

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证明您的质量

为了说明产品是符合规范的,您必须证明激光掩膜上的图形能够在制造显示屏时恰当地对齐。为了实现这一点,您需要比光刻机精度更高的测量设备。

Prexision MMS系列基于名为Evo的新型最先进的控制平台,旨在支持掩模制造领域在自动化、连接性和大数据方面不断增长的趋势,以实现更高的产品产量。Evo平台基于完全现代化的软件和电子架构,可满足行业当前和未来的需求。了解有关Evo控制平台的更多详细信息


主要优势

  • 30%

    更佳的配准
  • 20%

    更好地将掩膜套合到掩膜上
  • 30%

    更短的周转时间

(与之前的MMS型号MMS-15000相比)

  • 最新的创新性Prexision Evo平台具备优异的精准度与可重复性
  • 用我们的专利技术改善配准测量。
  • 因为第一次测量的结果精确无误,这大大给您节省了周转时间。
  • 充分发挥我们的Prexision光刻机的潜力。

基于最精确的Prexision Evo平台打造出的Prexision MMS Evo将对大面积的配准测量带到了全新的高度。现在,您可以证明您的光掩膜质量究竟有多好了!

为充分利用其性能,您的测量系统性能对于精密调校光刻机也是极其重要的,这样您的光掩膜才能以最高的质量描绘出来。

Prexision MMS Evo 提供两个型号。G8 型最高可处理用于 8 代显示器玻璃尺寸的掩模尺寸。对于 G10 型,最高可处理 11 代显示器尺寸。


技术指标

 

  Prexision MMS
G8 Evo
Prexision MMS
G10 
掩膜对掩膜套合3σ [nm] 40
配准3σ [nm] 65
CD可重复性 3σ [nm] 50
掩模尺寸 [mm] 1400 x 1620 1700 x 2000


手册


服务


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