掩膜计量系统
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掩膜计量系统
证明您的质量
为了说明产品是符合规范的，您必须证明激光掩膜上的图形能够在制造显示屏时恰当地对齐。为了实现这一点，您需要比光刻机精度更高的测量设备。
Prexision MMS系列基于名为Evo的新型最先进的控制平台，旨在支持掩模制造领域在自动化、连接性和大数据方面不断增长的趋势，以实现更高的产品产量。Evo平台基于完全现代化的软件和电子架构，可满足行业当前和未来的需求。了解有关Evo控制平台的更多详细信息
30%
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（与之前的MMS型号MMS-15000相比）
基于最精确的Prexision Evo平台打造出的Prexision MMS Evo将对大面积的配准测量带到了全新的高度。现在，您可以证明您的光掩膜质量究竟有多好了！
为充分利用其性能，您的测量系统性能对于精密调校光刻机也是极其重要的，这样您的光掩膜才能以最高的质量描绘出来。
Prexision MMS Evo 提供两个型号。G8 型最高可处理用于 8 代显示器玻璃尺寸的掩模尺寸。对于 G10 型，最高可处理 11 代显示器尺寸。
| Prexision MMS G8 Evo |
Prexision MMS G10 |
|
| 掩膜对掩膜套合3σ [nm] | 40 | |
| 配准3σ [nm] | 65 | |
| CD可重复性 3σ [nm] | 50 | |
| 掩模尺寸 [mm] | 1400 x 1620 | 1700 x 2000 |
拥有超过40年的电子工业经验，这使得您可以依托我们的技术占领市场的领先地位。我们了解市场的最新变化并且分支机构分布在50个国家和地区随时等待着为您服务。我们提供具有前瞻性的技术，致力于完成我们的使命，使我们的客户满意。
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