灵活性
生产力
稳定性
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生产力
稳定性
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生产力
稳定性
获得无与伦比的灵活性
我们的FPS系列掩模制造机为多用途应用提供稳定、高速且经济高效的先进光掩膜制造。根据您的要求，可以对其进行灵活配置，以处理各种应用，如高级电子封装、LED触摸屏、MEMS、滤色镜、精细金属掩模、3D模具等。
FPS系列基于名为Evo的新型最先进的控制平台，旨在支持掩模制造领域在自动化、连接性和大数据方面不断增长的趋势，以实现更高的产品产量。Evo平台基于完全现代化的软件和电子架构，可满足行业当前和未来的需求。了解有关Evo控制平台的更多详细信息
可靠且经过现场验证的所有掩模制造机均能够灵活地处理各种掩模应用，同时仍能实现出色的运行稳定性、高曝光速度、较大的曝光区域以及满足苛刻要求所需的CD均匀性。
FPS 8100 Evo是我们产品家族的最新成员，专为满足从LCD向AMOLED显示屏转变的日益增长的趋势而设计，这需要金属掩模用于有机材料的沉积过程。凭借新的平台和采用新技术，与成熟的FPS 6100 Evo系列相比，它的曝光速度提升了78%，曝光面积则增加了87%。
FPS解决方案的优势在于，您既可以继续生产现有产品，还可以开拓利润丰厚的新业务机会，这可能需要更大的基板区域，更高的曝光速度、更严格的关键尺寸甚至更精细的金属掩模制造。
FPS 8100 Evo是我们面向掩模制造商的高端解决方案，他们希望获得FPS概念的所有灵活性，但面临着与LED微电子加工、高级电子封装或精细金属掩模应用相关的新挑战。通过与要求苛刻的客户密切合作开发，它基于一个新的平台，采用多种新的性能增强技术，相比早期型号，提高了稳定性（生产率），扩展了多用途应用的曝光面积和速度。
该系统配置有两个光学级别，与早期的FPS 6100 Evo系列相比，曝光面积增加了87％（高达1,400 mm x 1,620 mm；精细金属掩模，最高可达8代显示尺寸）。它主要是为了满足从LCD到AMOLED显示技术转变的趋势，以提供更好的图像质量和更薄的显示屏，并提高能源效率。该技术还可用于制造可弯曲显示屏。
然而，AMOLED的新的更高要求还涉及更先进的光掩模，因为每个像素由5-6个晶体管控制，而LCD的每个像素仅有1-2个晶体管。这需要在每个像素内沉积更小、更精确的有机沉积物，这正是FPS8100可应对的新挑战。在满足这种非常特殊的需要同时，您还可以处理许多其他曝光应用。
FPS 6100 Evo可靠且经过充分验证，被一些世界领先的光掩模制造商使用于为先进的多用途应用实现卓越的图像质量和生产率。该系列的光源可通过两种不同的激光源进行配置，让您在镀铬或乳胶光掩模上曝光。
与之前的FPS5500相，FPS 6100 Evo具有更高的曝光速度和更高的图像质量。与早期型号相比，借助新开发的XT模式选项，它可使曝光速度提高高达76%。您还可以获得40%的CD均匀性提升，以满足当今的挑战性要求。
而且，如果您拥有老一代FPS系统，它可以升级到FPS 6100 Evo，为您的业务增加产能和质量提供了一种极具成本效益的方案。
FPS 6100E Evo配备了绿色激光光源，能够曝光乳胶光掩模。该系统构建在相同的Evo控制平台上，因此您可以体验FPS系列的所有优势。
| FPS 8100 Evo | |||||
| 曝光级别 | Lvl 40 | Lvl 25 | |||
| 曝光速度 [mm2/min] | 4500 | 6500 | |||
| 最小L/S溶解(pitch/2) | 2.0 | 3.5 | |||
| CD均匀性3σ [nm] | 60 | 80 | |||
| 配准3σ [nm] | 140 | 150 | |||
| 套合3σ [nm] | 100 | 120 | |||
| 最大掩模尺寸 [mm] | 1400x1620 | ||||
| FPS 6100 Evo | |||||||||
| 曝光级别 | Lvl 80 | Lvl 60 | Lvl 40 | Lvl 25 | Lvl 20 | Lvl 15 | |||
| 曝光速度 [mm²/min] | 525 | 1250 | 2600 | 6000 | 8000 | 12000 | |||
| 最小L/S溶解(pitch/2) | 0.75 | 1.2 | 2.0 | 3.5 | 5.0 | 7.0 | |||
| CD均匀性3σ [nm] | 30 | 40 | 60 | 80 | 100 | 200 | |||
| 套合3σ [nm] | 70 | 85 | 100 | 120 | 140 | 160 | |||
| 最大掩模尺寸 [mm] | 813x813* | ||||||||
| FPS 6100E Evo | Lvl 25 | Lvl 20 | Lvl 15 |
| 曝光速度 [mm²/min] | 5000 | 8000 | 12000 |
| 最小L/S溶解(pitch/2) | 6.0 | 8.0 | 12.0 |
| CD均匀性3σ [nm] | 600 | 700 | 900 |
| 套合3σ [nm] | 120 | 140 | 160 |
| 最大掩模尺寸 [mm] | 813x813* | ||
* 扩展的掩码尺寸可选择高达1100x1100和900x1200
有多种配置选项可供选择，可以使您的系统完全符合客户的要求。这些选项也可用作已安装的FPS6100系统的增值产品。
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