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半导体行业做好准备
SLX 激光光刻机因日益增长的电子产品需求而诞生，旨在满足一切都变得更加智能的趋势，如：消费电子、汽车、物联网设备、医疗设备以及工业制造设备等。由于需要更多种类的设计以及对价格较为敏感的批量生产，这推动了对成熟设计节点的光掩模的需求。因其每个掩模的曝光成本更低，业界更倾向于使用激光光刻机，因此 70% ~75% 的光掩模都是采用激光技术进行生产，并使激光光刻机成为半导体行业的骨干设备。
然而，现在使用的激光光刻机日益陈旧，导致生产速度慢、成本高，因此无法达到高效的目的。
Mycronic 推出 SLX 系列（新一代经济高效的激光光刻机）应对这一挑战，该系列基于现代架构而打造，确保系统运行稳定可靠。
作为显示屏行业世界上先进的光刻机供应商，Mycronic 具有独特的领先地位。对于显示屏光掩模而言，在整个光掩模区域上可确保质量的快速写入速度至关重要，因为该领域的光掩模尺寸是半导体行业中所用光掩模的 50-100 倍。SLX 系列利用 Mycronic 最先进的显示屏光刻机多光束曝光技术，在确保质量的情况下最快 20 分钟可曝光 6 英寸的光掩模。此外，SLX 系列还采用固态激光器，通过降低功耗将运行成本降至最低。SLX 系列是适合价格敏感的成熟半导体节点制造的最佳系统。
为了顺应电子市场的趋势，半导体行业一直在不断发展，光掩模行业也应适应这些趋势。然而，该领域的激光工具已经陈旧，难以维护。SLX 系列基于最新的硬件和软件平台，可在瞬息万变的世界中提供灵活的支持，并具有开发新功能以满足未来客户需求的潜力。因此，SLX 将随着时间的推移而发展，未来将基于同一平台发布改进和更快速的型号。
SLX 系列共用 Evo 控制平台，该平台也用于其他 Mycronic 光刻机。这意味着我们经验丰富的服务机构可以从系统安装后的第一天开始便为 SLX 系列提供支持，从而实现最长的系统正常运行时间并优化系统性能，而这是在现场使用传统系统所无法做到的。
| 通道数 | 2P | 1P |
| 曝光速度* | ~40 分钟 | ~20 分钟 |
| CD 均匀性 (3σ) | 25 nm | 35 nm |
| 配准 (3σ) | 30 nm | 40 nm |
| 掩模尺寸 | 5”~12” |
| 通道数 | 3P | 2P | 1P |
| 曝光速度* | ~97 分钟 | ~64 分钟 | ~32 分钟 |
| CD 均匀性 (3σ) | 12 nm | 15 nm | 20 nm |
| 配准 (3σ) | 20 nm | 25 nm | 30 nm |
| 掩模尺寸 | 5”~9” |
| 通道数 | 3P | 2P | 1P |
| 曝光速度* | ~169 分钟 | ~113 分钟 | ~56 分钟 |
| CD 均匀性 (3σ) | 10 nm | 12 nm | 20 nm |
| 配准 (3σ) | 20 nm | 25 nm | 30 nm |
| 掩模尺寸 | 6” |
*Estimate exposure time for 6” mask area
