FPS-Serie

Flexibilität
Produktivität
Stabilität

FPS-Serie

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Produktivität
Stabilität

FPS-Serie

Flexibilität
Produktivität
Stabilität

Mehrzweck-Fotomaskenherstellung

jetzt mit beispielloser Flexibilität

Unsere Maskenschreiber der FPS-Serie ermöglichen die stabile, schnelle und kostengünstige Herstellung von anspruchsvollen Fotomasken für Mehrzweckanwendungen. Je nach Ihren Anforderungen können sie flexibel für ein breites Anwendungsspektrum konfiguriert werden, wie z.B. Elektronik-Packaging auf dem neuesten Stand der Technik, LED-Touchscreens, MEMS, Farbfilter, Feinmetallmasken, 3D-Formen und mehr.

Die FPS-Serie basiert auf der neuen hochmodernen Steuerungsplattform Evo, die entwickelt wurde, um wachsende Trends in den Bereichen Automatisierung, Konnektivität und große Datenmengen im Bereich der Maskenherstellung zu unterstützen und so eine höhere Produktausbeute zu erzielen. Die Evo-Plattform basiert auf einer hochmodernen Software- und Elektronikarchitektur, die sowohl aktuellen als auch zukünftigen Anforderungen der Industrie gerecht wird. Erfahren Sie mehr über die Steuerungsplattform Evo.

Alle unsere Maskenschreiber sind zuverlässig und praxiserprobt. Dank ihrer Flexibilität können sie verschiedene Maskenanwendungen handhaben, während sie gleichzeitig hervorragende Betriebsstabilität, hohe Schreibgeschwindigkeiten, große Schreibflächen und die CD-Uniformität erreichen, die Sie für anspruchsvolle Anforderungen benötigen.

Das jüngste Mitglied unserer Familie, die FPS 8100 Evo, wurde speziell entwickelt, um dem wachsenden Trend vom LCD- zum AMOLED-Display gerecht zu werden, das Metallmasken für den Abscheidungsprozess organischer Materialien benötigt. Mit einer neuen Plattform und zusätzlichen Technologien bietet sie im Vergleich zu unserer etablierten FPS 6100 Evo eine 78% höhere Schreibgeschwindigkeit und 87% mehr Schreibfläche.

Das Schöne an FPS-Lösungen ist, dass Sie weiterhin bestehende Produkte fertigen, aber auch lukrative neue Geschäftsmöglichkeiten verfolgen können, die größere Flächen, höhere Schreibgeschwindigkeiten, engere kritische Maße oder sogar die Herstellung von Feinmetallmasken erfordern.


Die wichtigsten Vorteile

  • Flexibilität
    Breites Angebot an Produktkonfigurationen
  • Produktivität
    Erhöhte Schreibgeschwindigkeit im XT-Modus
  • Stabilität
    Unübertroffene Systemverfügbarkeit
  • Bis zu sechs verschiedene Schreibstufen und verschiedene Ladelösungen mit folgenden Vorteilen
  • Konfigurierbar mit zwei verschiedenen Laserquellen zur Belichtung auf Chrom- oder Emulsionsfotomasken.
  • Bis zu G8 Maskengröße Belichtungsbereich
  • Erhöhen Sie die Schreibgeschwindigkeit um bis zu 76% im XT (eXtreme Throughput) Modus.
  • Beibehaltung der Systemverfügbarkeit von über 95% seit der ersten Systeminstallation.

FPS 8100 Evo

Die FPS 8100 Evo ist unsere High-End-Lösung für Maskenhersteller, die die ganze Flexibilität des FPS-Konzepts wünschen, aber vor neuen Herausforderungen durch die Mikrofertigung von LEDs, fortschrittlichen Elektronikgehäusen oder Feinmetall-Maskenanwendungen stehen. Sie wurde in enger Zusammenarbeit mit anspruchsvollen Kunden entwickelt, baut auf einer neuen Plattform auf und beinhaltet mehrere neue leistungssteigernde Technologien, um die Stabilität (Produktivitätsertrag) zu verbessern, den Schreibbereich und die Geschwindigkeit für Mehrzweckanwendungen im Vergleich zu früheren Modellen zu erweitern.

Das System ist mit zwei optischen Ebenen konfiguriert und bietet im Vergleich zur früheren FPS 6100 Evo einen 87% größeren Schreibbereich (bis zu 1.400 mm x 1.620 mm; feine Metallmaske für bis zu 6 Displaygrößen). Sie wurde in erster Linie entwickelt, um dem Trend von der LCD- zur AMOLED-Displaytechnologie gerecht zu werden, die eine bessere Bildqualität und dünnere Displays bei gleichzeitig höherer Energieeffizienz ermöglicht. Diese Technologie kann auch zur Herstellung von biegsamen Displays eingesetzt werden.

Die neuen höheren Anforderungen von AMOLED beinhalten jedoch auch fortgeschrittenere Fotomasken, da jedes Pixel von 5-6 Transistoren gesteuert wird (gegenüber 1-2 Transistoren bei LCD). Dies erfordert die Abscheidung kleinerer, genauerer organischer Ablagerungen innerhalb jedes Pixels – eine neue Herausforderung, die vom FPS 8100 Evo hervorragend gelöst wird. Parallel zu diesem sehr spezifischen Bedarf können Sie auch viele andere Schreibanwendungen handhaben.

FPS 6100 Evo und FPS 6100E Evo

Die zuverlässige und bewährte FPS 6100 Evo und FPS 6100E Evo werden von einigen der weltweit führenden Fotomaskenhersteller eingesetzt und erreicht eine hervorragende Bildqualität und Produktivität für anspruchsvolle Mehrzweckanwendungen. Die Schreiber dieser Serie sind mit zwei verschiedenen Laserquellen konfigurierbar und ermöglichen die Belichtung auf Chrom- oder Emulsionsfotomasken.

Die FPS 6100 Evo bietet sowohl eine höhere Schreibgeschwindigkeit als auch eine verbesserte Bildqualität im Vergleich zur vorherigen FPS5500. Im Vergleich zu früheren Modellen können Sie dank der neu entwickelten XT-Modus-Option die Schreibgeschwindigkeit um bis zu 76% erhöhen. Außerdem erhalten Sie eine 40%ige Verbesserung der CD-Einheitlichkeit, um heutigen anspruchsvollen Anforderungen gerecht zu werden.

Das FPS 6100E Evo ist mit einem grünen Laser ausgestattet, der in der Lage ist, Emulsionsmasken zu belichten. Das System basiert auf derselben Evo-Steuerungsplattform, so dass Sie alle Vorteile der FPS-Serie genießen können.


Technische Daten

 

FPS 8100 Evo    
Schreibebenen Lvl 40  Lvl 25
Schreibgeschwindigkeit [mm²/min] 4500 6500
Minimale L/S-Auflösung (Teilung/2) 2,0 3,5
CD-Uniformität 3σ [nm] 60 80
Registerhaltigkeit 3σ [nm] 140 150
Overlay 3σ [nm] 100 120
Max. Maskengröße [mm]     1400x1620

 

FPS 6100 Evo            
Schreibebenen Lvl 80 Lvl 60 Lvl 40 Lvl 25 Lvl 20 Lvl 15 
Schreibgeschwindigkeit [mm²/min] 525 1250 2600 6000 8000 12000
Minimale L/S-Auflösung (Teilung/2) 0,75 1,2 2,0 3,5 5,0 7,0
CD-Uniformität 3σ [nm] 30 40 60 80 100 200
Overlay 3σ [nm] 70 85 100 120 140 160
Max. Maskengröße [mm]     813x813*

 

FPS 6100E Evo Lvl 25 Lvl 20 Lvl 15 
Schreibgeschwindigkeit [mm²/min] 5000 8000 12000
Minimale L/S-Auflösung (Teilung/2) 6,0 8,0 12,0
CD-Uniformität 3σ [nm] 600 700 900
Overlay 3σ [nm] 120 140 160
Max. Maskengröße [mm]     813x813*

* Erweiterte Maskengrößen bis zu 1100x1100 und 900x1200 sind als Optionen erhältlich


Optionen

Damit Sie Ihr System exakt auf die Anforderungen Ihrer Kunden ausrichten können, stehen verschiedene Optionen zur Verfügung. Diese Optionen sind auch als Mehrwertprodukte für Ihre bereits installierten FPS6100-Systeme erhältlich.


Dienstleistungen


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Mit mehr als 40 Jahre Erfahrung in der elektronischen Industrie und einer einmaligen Führungsposition, können Sie auf uns zählen. Wir verstehen die schnellen Marktänderungen und haben eine starke Präsenz in über 50 Ländern um unseren Kunden zu helfen.
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