SLX-Serie

Für eine Welt voller
smarter Lösungen

SLX-Serie

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SLX-Serie

Für eine Welt voller
smarter Lösungen

Top-Speed für die

 Halbleiterindustrie von morgen

Der SLX-Laser Mask Writer ist unsere Antwort auf die stetig wachsende Bedeutung smarter Alltagselektronik, wie z. B. Konsumgüter, Autos, Internet der Dinge, medizinische Geräte, aber auch Anlagen zur industriellen Fertigung. Dies geht mit einer immer größeren Designvielfalt und der Notwendigkeit einer kostengünstigen Massenfertigung einher, was wiederum die Nachfrage nach Fotomasken für ausgereifte Halbleiterknoten steigen lässt. Die Industrie bevorzugt den Einsatz von laserbasierten Maskenschreibern aufgrund der geringeren Belichtungskosten pro Maske, sodass 70-75 % aller Fotomasken mit Lasertechnologie hergestellt werden. Dies macht die Lasermaskenschreiber zu tragenden Pfeilern der Halbleiterindustrie.

Da viele derzeit eingesetzte Laser Mask Writer jedoch in die Jahre kommen, sind sie häufig langsam und teuer im Betrieb und damit für die heutigen Zwecke nicht mehr geeignet.

Dieser Herausforderung stellt sich Mycronic mit der SLX-Serie – einer neuen Generation kostengünstiger Laser Mask Writer, die auf einer modernen Architektur basieren und eine stabile und zuverlässige Produktion sicherstellen.

Mycronic SLX series photomask equipment

Beste Wahl für kostengünstige Produktion

Als Hersteller des weltweit fortschrittlichsten Mask Writers hat sich Mycronic in der Displayindustrie eine herausragende Position erarbeitet. Da Fotomasken für Displays 50-100 größer sind als die in der Halbleiterindustrie eingesetzten Masken, kommt es hier entscheidend auf einen schnellen Schreibvorgang mit gleichbleibend hoher Qualität über den gesamten Maskenbereich an. Die SLX-Serie nutzt die gleiche Multibeam-Schreibtechnologie wie der fortschrittlichste Display-Maskenschreiber von Mycronic und kann 6"-Fotomasken in nur 20 Minuten mit gesicherter Qualität belichten. Weiterhin verbraucht der Festkörperlaser, der in der SLX-Serie verbaut ist, ausgesprochen wenig Strom und senkt so die Betriebskosten. Damit empfiehlt sich die SLX-Serie als optimale Lösung für die kostengünstige Fertigung ausgereifter Halbleiterknoten.

Mycronic SLX series photomask epuipment

Erweiterbare Architektur auf dem neuesten Stand

Um den Markttrends im Elektroniksegment gerecht zu werden, hat sich die Halbleiterindustrie im Laufe der Zeit gewandelt – eine Entwicklung, der auch Hersteller von Fotomasken Rechnung tragen sollten. Viele der heute eingesetzten Lasertools sind allerdings veraltet und mit einem hohen Wartungsaufwand verbunden. Die SLX-Serie basiert auf aktuellsten Hard- und Software-Plattformen, die in einer Welt des rapiden Wandels flexiblen Support ermöglichen und sich um neue Funktionen ergänzen lassen, um künftige Kundenanforderungen zu erfüllen. In diesem Sinne wird auch die SLX-Reihe im Laufe der Zeit weiterentwickelt und um verbesserte und schnellere Modelle auf Basis derselben Plattform erweitert werden.

SLX series ultimate system reliability

Kompetenter Service ab Tag 1

Die SLX-Serie nutzt dieselbe Evo-Steuerungsplattform, die auch andere Mycronic-Mask Writer verwenden. Unser kompetentes Service-Team vor Ort kann also ab dem ersten Tag nach Installation des Systems kompetenten Support für die SLX-Serie leisten. Dies gewährleistet eine überragende Betriebsbereitschaft und Systemleistung, die sich mit älteren Anlagen nicht erreichen lässt.


Wesentliche Vorteile

  • Preisgünstig
    niedrige Betriebskosten
  • Robust
    basiert auf moderner, praxiserprobter Plattform
  • Verlässlich
    , Zugang zu kompetentem technischem Support ab Tag 1

Technische Daten

SLX 1 e1

Durchläufe 2 Durchläufe 1 Durchlauf
Schreibgeschwindigkeit* ~40 mins ~20 mins
Uniformität der CD-Werte (3σ) 25 nm 35 nm
Registration (3σ) 30 nm 40 nm
Maskengröße 5”~12”  

SLX 2 e1

Durchläufe 3 Durchläufe 2 Durchläufe 1 Durchläufe
Schreibgeschwindigkeit* ~97 mins ~64 mins ~32 mins
Uniformität der CD-Werte (3σ) 12 nm 15 nm 20 nm
Registration (3σ) 20 nm 25 nm 30 nm
Maskengröße  5”~9”    

SLX 3 e1

Durchläufe 3 Durchläufe 2 Durchläufe 1 Durchläufe
Schreibgeschwindigkeit* ~169 mins ~113 mins ~56 mins
Uniformität der CD-Werte (3σ) 10 nm 12 nm 20 nm
Registration (3σ) 20 nm 25 nm 30 nm
Maskengröße 6”    

*Belichtungszeit für 6" Maskenbereich abschätzen


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