Série FPS

Flexibilité
Productivité
Stabilité

Série FPS

Flexibilité
Productivité
Stabilité

Série FPS

Flexibilité
Productivité
Stabilité

La fabrication de photomasques polyvalents

fait preuve d’une flexibilité inégalée

Notre série de machines de marquage laser de masques FPS offre une fabrication stable, à grande vitesse et rentable de photomasques de pointe pour des applications polyvalentes. Selon vos besoins, ils peuvent être configurés avec souplesse pour gérer un large éventail d’applications, telles que l’emballage électronique avancé, écrans tactiles LED, MEMS, filtres de couleur, masques métalliques fins, moules 3D et plus encore.

La série FPS repose sur la nouvelle plate-forme de contrôle de pointe appelée Evo, conçue pour prendre en charge les tendances croissantes en matière d’automatisation, de connectivité et de grandes données dans l’environnement de fabrication de masques afin d’obtenir un meilleur rendement du produit. La plate-forme Evo est conçue sur la base d’une architecture logicielle et électronique entièrement moderne, prête à répondre aux exigences actuelles et futures de l’industrie. En savoir plus sur la plate-forme de contrôle Evo.

Fiables et ayant fait leurs preuves sur le terrain, toutes nos machines de marquage laser de masques offrent une flexibilité de gérer diverses applications de masque, tout en affichant une stabilité exceptionnelle de fonctionnement, des vitesses d’écriture élevées, de grandes zones d’écriture et l’uniformité des dimensions critiques dont vous avez besoin pour répondre à des exigences élevées.

Le dernier ajout à notre gamme, le FPS 8100 Evo, est spécifiquement conçu pour répondre à la tendance croissante de l’affichage LCD à AMOLED, qui nécessite des masques métalliques pour le processus de dépôt de matières organiques. Avec une nouvelle plate-forme et des technologies additionnelles, il offre une augmentation de 78 % de la vitesse d’écriture et une zone d’écriture augmentée de 87 % par rapport à notre série FPS 6100 Evo déjà présente.

L’avantage des solutions FPS est que vous pouvez continuer à fabriquer des produits existants, tout en saisissant de nouvelles opportunités commerciales lucratives qui peuvent nécessiter de plus grandes zones de travail, des vitesses d’écriture plus élevées, des dimensions critiques plus limitées voire même la fabrication d’un masque en métal fin.


Principaux avantages

  • Flexibilité
    Large gamme de configurations de produits
  • Productivité
    Vitesse d’écriture accrue en mode XT
  • Stabilité
    Temps de disponibilité inégalé du système
  • Jusqu’à six niveaux d’écriture différents et une offre de solutions de chargement diversifiées
  • Configurable avec deux sources laser différentes pour écrire sur des photomasques chromés ou en émulsion.  
  • Zone d’exposition jusqu’à la taille d’un masque G8
  • Meilleure vitesse d’écriture jusqu’à 76 % avec le mode XT (eXtreme Throughput)
  • Maintien d’un temps de disponibilité du système de plus de 95 % depuis l’installation du premier système

FPS 8100 Evo

Le FPS 8100 Evo est notre solution haut de gamme pour les fabricants de masques qui veulent bénéficier de toute la flexibilité du concept FPS, mais qui font face à de nouveaux défis liés à la microfabrication de LED, paquets électroniques avancés ou applications de masques en métal fin. Développé en étroite collaboration avec des clients exigeants et comparé aux modèles précédents, il se fonde sur une nouvelle plate-forme et comprend plusieurs nouvelles technologies orientées performances visant à améliorer la stabilité (rendement) et étendre la zone et la vitesse d’écriture pour les applications polyvalentes.

Par rapport à la série FPS 6100 Evo précédente, le système est configuré avec deux niveaux optiques et augmente de 87 % la zone d'écriture (jusqu’à 1 400 mm x 1 620 mm pour les masques métalliques fins et pour une taille d’écran jusqu’à la 6e génération). Il est principalement conçu pour répondre à la tendance de la technologie d’affichage LCD à AMOLED, qui permet une meilleure qualité d’image et des écrans plus minces présentant une efficacité énergétique accrue. Cette technologie est également utilisable pour la fabrication d’écrans pliables.

Cependant, les nouvelles exigences plus élevées de la technologie AMOLED impliquent également des photomasques plus sophistiqués puisque chaque pixel est contrôlé par 5 à 6 transistors, contre 1 à 2 transistors pour la technologie LCD. D’autres part, les dépôts organiques dans chaque pixel doivent être plus petits et précis, un nouveau défi que seul le FPS8100 peut relever. Outre ce besoin très spécifique, vous pouvez également gérer de nombreuses autres applications d’écriture.

Série FPS 6100 Evo et FPS 6100E Evo

Fiable et éprouvé, le FPS 6100 Evo est utilisé par certains des principaux fabricants de photomasques au monde en vue d’atteindre une qualité d’image et une productivité supérieures pour des applications polyvalentes de pointe. Configurable avec deux sources laser différentes, les marqueurs de cette série vous permettent d’écrire sur des photomasques chromés ou à émulsion.

Le FPS 6100 Evo offre à la fois une vitesse d’écriture plus élevée et une meilleure qualité d’image par rapport à la série FPS5500 précédente. Comparé aux modèles précédents, il vous permet d’augmenter les vitesses d’écriture jusqu'à 76 % grâce à la nouvelle option Mode XT. Vous bénéficiez également d’une amélioration de 40 % de l’uniformité CD, permettant de satisfaire aux exigences actuelles les plus critiques.

Le FPS 6100E Evo est équipé d’un laser de couleur verte qui est capable d’écrire sur les masques d’Emulsion. Le système est construit sur la même plate-forme de contrôle Evo, ce qui vous permet de profiter de tous les avantages de la série FPS.


Spécifications

 

FPS 8100 Evo    
Niveaux d’écriture Lvl 40  Lvl 25
Vitesse d’écriture [mm²/min] 4500 6500
L/S minimum résolu (pas/2) 2.0 3.5
Uniformité CD 3σ [nm] 60 80
Inscription 3σ [nm] 140 150
Superposition 3σ [nm] 100 120
Taille maximale du masque [mm]     1400x1620

 

FPS 6100 Evo            
Niveaux d’écriture Lvl 80 Lvl 60 Lvl 40 Lvl 25 Lvl 20 Lvl 15 
Vitesse d’écriture [mm²/min] 525 1250 2600 6000 8000 12000
L/S minimum résolu (pas/2) 0,75 1,2 2,0 3,5 5,0 7,0
Uniformité CD 3σ [nm] 30 40 60 80 100 200
Superposition 3σ [nm] 70 85 100 120 140 160
Taille maximale du masque [mm]     813x813*

 

FPS 6100E Evo Lvl 25 Lvl 20 Lvl 15 
Vitesse d’écriture [mm²/min] 5000 8000 12000
L/S minimum résolu (pas/2) 6,0 8,0 12,0
Uniformité CD 3σ [nm] 600 700 900
Superposition 3σ [nm] 120 140 160
Taille maximale du masque [mm]     813x813*

* Tailles de masque étendues jusqu'à 1 100 x 1 100 et 900 x 1 200 disponibles en option


Options

Un certain nombre d’options sont disponibles afin que vous puissiez équiper votre système de façon conforme aux exigences de vos clients. Ces options sont également disponibles en tant que produits à ajouter à vos systèmes FPS6100 déjà installés.


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