Série SLX

Construite pour un
monde plus intelligent

Série SLX

Construite pour un
monde plus intelligent

Série SLX

Construite pour un
monde plus intelligent

Accélérez pour suivre le

rythme de l’industrie des semi-conducteurs

Face aux exigences croissantes des composants électroniques modernes, la machine de marquage de masques au laser SLX est conçue pour répondre à la tendance visant à rendre tous les systèmes intelligents : biens de consommation, voitures, appareils de l’Internet des Objets, dispositifs médicaux et équipements de fabrication industrielle, entre autres. Cette tendance entraîne une demande de photomasques de nœuds de conception avancée en raison de la plus grande variété de conceptions requises et de la fabrication en volume sensible aux prix. L’industrie préfère utiliser des machines de marquage de masques au laser en raison du coût d’exposition inférieur par masque. 70 à 75 % de tous les photomasques sont donc produits à l’aide de la technologie laser et les machines de marquage de masques au laser sont ainsi la pierre d’angle de l’industrie des semi-conducteurs.

Cependant, les machines de marquage de masques au laser utilisées aujourd’hui vieillissent, ralentissant la production et augmentant les coûts. Cela stimule la demande de photomasques de nœuds de conception mature en raison de la plus grande variété de conceptions requises combinée à une fabrication en volume sensible au prix.

Pour résoudre ce problème, Mycronic présente la série SLX, une machine de marquage de masques au laser rentable de nouvelle génération, basée sur une architecture moderne assurant un fonctionnement stable et fiable du système.

Mycronic SLX series photomask equipment

Le meilleur choix pour une production rentable

Mycronic tient une position unique en tant que fabricant de machines de marquage de masque les plus avancées au monde pour l’industrie des écrans. Pour les photomasques d’écran, une vitesse d’écriture élevée et une qualité assurée sur une zone de photomasque globale sont des critères essentiels car ces photomasques sont 50 à 100 fois plus grands que ceux utilisés dans l’industrie des semi-conducteurs. Utilisant la même technologie de marquage multifaisceau que la machine de marquage de masques d’écran Mycronic la plus avancée, la série SLX peut exposer un photomasque de 6” en 20 minutes avec une qualité assurée. En outre, la série SLX utilise un laser à état solide qui minimise les coûts de fonctionnement en réduisant la consommation d’énergie. La série SLX est le système idéal pour la fabrication sensible aux prix de nœuds de semi-conducteurs avancés.

Mycronic SLX series photomask epuipment

Une nouvelle architecture moderne extensible

Pour répondre aux tendances du marché de l’électronique, l’industrie des semi-conducteurs a évolué au fil du temps et l’industrie des photomasques doit s’adapter à ces tendances. Toutefois, les outils au laser disponibles dans ce segment sont vieux et difficiles à entretenir. La série SLX est basée sur les plate-formes matérielles et logicielles les plus modernes afin d’offrir une flexibilité optimale dans un monde en rapide évolution et la possibilité de développer de nouvelles fonctions pour répondre aux futures demandes des clients. La SLX se développera donc au fil du temps et des modèles améliorés et plus rapides, basés sur la même plate-forme, seront présentés à l’avenir.

SLX series ultimate system reliability

Accès à un service qualifié dès le premier jour

La série SLX partage la plate-forme de commande Evo, également utilisée pour d’autres machines de marquage de masques Mycronic. Notre organisation de service qualifiée, présente au niveau local, peut donc vous apporter de l’assistance avec la série SLX dès le premier jour suivant l’installation du système afin de maximiser la disponibilité et les performances, un avantage impossible lors de l’utilisation de systèmes hérités.


Principaux avantages

  • Rentabilité
    faible coût de possession
  • Durabilité
    système basé sur une plate-forme moderne éprouvée sur le terrain
  • Fiabilité
    accès à un ingénieur qualifié dès le premier jour

Spécifications

SLX 1 e1

Passes 2P 1P
Vitesse d’écriture* ~40 min ~20 min
CD Uniformity (3σ) 25 nm 35 nm
Inscription (3σ) 30 nm 40 nm
Taille de masque 5”~12”  

SLX 2 e1

Passes 3P 2P 1P
Vitesse d’écriture* ~97 min ~64 min ~32 min
Uniformité CD (3σ) 12 nm 15 nm 20 nm
Inscription (3σ) 20 nm 25 nm 30 nm
Taille de masque  5”~9”    

SLX 3 e1

Passes 3P 2P 1P
Vitesse d’écriture* ~169 min ~113 min ~56 min
Uniformité CD (3σ) 10 nm 12 nm 20 nm
Inscription (3σ) 20 nm 25 nm 30 nm
Taille de masque 6”    

*Estimation du temps d’exposition pour une zone de masque 6


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