Prexision-MMS

フォトマスク
座標測定装置

 

Prexision-MMS

フォトマスク
座標測定装置

 

Prexision-MMS

フォトマスク
座標測定装置

 

座標測定装置が

フォトマスクの品質を証明

ディスプレイ製造におけるフォトマスクの仕様の適合性を示すためには、フォトマスク上のパターンが高い位置精度で描画されていることの証明が欠かせません。これを達成するには、レーザーマスク描画装置以上に精度が優れた測定装置が必要となります。

最新の最先端制御プラットフォームEvoを搭載したPrexision MMSシリーズは、マスク製造環境で増加傾向にある自動化、接続機能、ビッグデータに対応して、より高い歩留まりを達成します。全面的に新しくなったソフトウェアとエレクトロニクスアーキテクチャをベースとしたEvoプラットフォームは、業界の現在の要件にも将来の要件にもしっかりと応えます。

Evo制御プラットフォームについて詳しく読む


主な利点

  • 30%

    描画位置精度の向上
  • 20%

    オーバーレイの改善 (Mask to Mask)
  • 30%

    測定時間の短縮

(従来のMMSモデル、MMS-15000と比較した場合)

  • マイクロニックの革新的Prexision Evoプラットフォームによる、優れた精度と再現性
  • マイクロニック独自の技術で改良された位置精度測定
  • 測定時間の短縮(初回測定結果の採用可能)
  • マイクロニックのレーザーマスク描画装置Prexisionの性能を最大限に活用可能

 

マスク測定装置Prexision MMS Evoは、最高レベルの精度を持つマスク描画装置Prexision Evoのプラットフォームをベースにしています。大型マスクの描画位置精度測定を新たなレベルに引き上げ、高精度フォトマスク品質保証が可能となります。

測定装置の性能は、高度に調整されたレーザーマスク描画装置の性能をフルに引き出すために非常に重要で、最高品質のフォトマスク製造を可能にする大切なポイントのひとつです。

Prexision MMS Evoは、2機種をご提供しています。G8モデルは第8世代ガラス基板用のフォトマスクまで測定可能です。G10モデルは第11世代ガラス基板用のフォトマスクまで対応できます。


仕様

 

 

Prexision MMS G8 Evo

Prexision MMS G10

オーバーレイ(Mask to Mask) 3σ [nm] 40
位置精度 3 σ [nm] 65
CD再現性 3 σ [nm] 50
マスクサイズ [mm] 1400 x 1620 1700 x 2000


パンフレット


サービス


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