フォトマスク
座標測定装置
フォトマスク
座標測定装置
フォトマスク
座標測定装置
フォトマスクの品質を証明
ディスプレイ製造におけるフォトマスクの仕様の適合性を示すためには、フォトマスク上のパターンが高い位置精度で描画されていることの証明が欠かせません。これを達成するには、レーザーマスク描画装置以上に精度が優れた測定装置が必要となります。
最先端の新制御プラットフォームEvo上に構築されたPrexision MMSシリーズは、マスク製造環境で増加傾向にあるオートメーション、接続性、ビッグデータに対応して、より高い歩留まりを達成します。全面的に新しくなったソフトウェアとエレクトロニクスアーキテクチャをベースとしたEvoプラットフォームは、業界の現在の要件にも将来の要件にもしっかりと応えます。Evo制御プラットフォームについて詳しく読む。
30%
20%
30%
（従来のMMSモデル、MMS-15000と比較した場合）
マスク測定装置Prexision MMS Evoは、最高レベルの精度を持つマスク描画装置Prexision Evoのプラットフォームをベースにしています。大型マスクの描画位置精度測定を新たなレベルに引き上げ、高精度フォトマスク品質保証が可能となります。
測定装置の性能は、高度に調整されたレーザーマスク描画装置の性能をフルに引き出すために非常に重要で、最高品質のフォトマスク製造を可能にする大切なポイントのひとつです。
Prexision MMS Evoは、2機種をご提供しています。G8モデルは第8世代ガラス基板用のフォトマスクまで測定可能です。G10モデルは第11世代ガラス基板用のフォトマスクまで対応できます。
|
Prexision MMS G8 Evo |
Prexision MMS G10 |
|
| オーバーレイ(Mask to Mask) 3σ [nm] | 40 | |
| 位置精度 3 σ [nm] | 65 | |
| CD再現性 3 σ [nm] | 50 | |
| マスクサイズ [mm] | 1400 x 1620 | 1700 x 2000 |
エレクトロニクス業界で40年以上市場をリードしてきたマイクロニックにお任せください。市場での急速な変化を理解し、お客様のご要望に迅速に対応するために世界50カ国以上でビジネスを展開しています。お客様及び我々のミッション実現のために先進のテクノロジーをご提供します。
ご質問は下記のフォームでお気軽にお問合せください。折り返し担当者よりご連絡を差し上げます。
