柔軟性
生産性
安定性
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安定性
柔軟性は比類なきレベルへ
マイクロニックのマスク描画装置FPSシリーズは、高速でコスト効率が良く安定した先端フォトマスク製造が可能で、多様なアプリケーション向けにご使用いただけます。ご要望に応じて装置を柔軟に構成することができ、先端電子パッケージ、LEDタッチパネル、MEMS、カラーフィルター、ファインメタルマスク、3Dモールド等、幅広いアプリケーションに対応します。
最先端の新制御プラットフォームEvo上に構築されたFPSシリーズは、マスク製造環境で増加傾向にあるオートメーション、接続性、ビッグデータに対応して、より高い歩留まりを達成します。全面的に新しくなったソフトウェアとエレクトロニクスアーキテクチャをベースとしたEvoプラットフォームは、業界の現在の要件にも将来の要件にもしっかりと応えます。Evo制御プラットフォームについて詳しく読む。
信頼性に優れ長年に亘り実績のあるマイクロニックのマスク描画装置は、多様なアプリケーションに柔軟に対応する一方、厳しい要件に対処するために必要な卓越した安定性、高速描画、広い描画エリア、CD均一性をご提供します。
FPSシリーズの最新機種FPS 8100 Evoは、液晶ディスプレイから有機ELへシフトする傾向の高まりに対応するために設計されました。有機ELは、有機材料の蒸着プロセスにメタルマスクを必要とします。新技術を搭載した新しいプラットフォームを採用したことにより、FSP 6100 Evoシリーズに比べ描画速度は78％速くなり、描画エリアは87％拡張されました。
FPSシリーズの素晴らしい点は、現行製品の生産を続けながら、利益率の高い新たなビジネスに挑戦できるところです。FPSシリーズなら、より広い描画エリアにも、高速描画にも、より厳しいCD精度にも、ファインメタルマスクの製造にも対応することが可能です。
FPS 8100 EvoはFPSシリーズのハイエンドソリューションで、FPSシリーズの柔軟性を必要としながら、LED、先端電子パッケージ、ファインメタルマスク等の微細加工に関連する新たな課題に直面しているマスクメーカーに最適な装置です。要求の厳しいお客様との密接なコラボレーションにより開発されたFPS8100は新しいプラットフォームを採用、パフォーマンスを強化する複数の新技術を搭載しており、従来機に比べ安定性（歩留まり）を向上、描画エリアの拡張とさらなる高速化により多用途向けに好適な機種となりました。
FPS 8100 Evoは2種類の描画レベルが選択可能で、FPS 6100 Evoシリーズに比べ87％拡張された描画エリア（最大1,400mm x 1,620mm、第8世代ディスプレイ用ファインメタルマスク対応可）が特長です。主に、液晶より高画質・薄型で省電力なディスプレイを可能にした有機ELへシフトする最近の傾向に対応した設計となっています。この技術はベンダブルディスプレイの製造にも用いられます。
液晶ディスプレイでは各画素の制御に1～2個のトランジスタを使用するのに対して、AMOLEDディスプレイでは5～6個のトランジスタを必要とすることからより高度なフォトマスクが必要となり、以前よりも厳しい要件が課せられます。各画素内で、より精細かつ正確な有機膜の蒸着が求められることになりますが、この新たな課題に応えられるのが、唯一、FPS 8100 Evoです。また、この非常に特殊なニーズのほかにも、多くの描画アプリケーションに対応することができます。
信頼性と実績を誇るFPS 6100 Evo/FPS 6100E Evoは、優れた画質と生産性を達成した高度な多目的用途向けフォトマスク描画装置で、世界のトップレベルのフォトマスクメーカーで使用されています。2つの異なるレーザー光源の選択が可能なFPS6100シリーズは、クロムまたはエマルジョンのいずれのフォトマスクでも描画することができます。
FPS 6100 Evoは先行機種のFPS5500と比較して、描画速度の高速化と画質向上を同時に実現しました。新開発のXTモードオプションにより、描画速度は従来機に比べ最大で76%高速化。今日の厳しい要件を満たすために、CD均一性も40%向上しています。
FPS 6100E Evoはエマルジョンマスクの露光が可能なグリーンレーザーを搭載しています。同じEvo制御プラットホーム上に構築されたシステムであるため、FPSシリーズの利点のすべてをそのまま受け継いでいます。
| FPS 8100 Evo | |||||
| 描画レベル | Lvl 40 | Lvl 25 | |||
| 描画速度 [mm²/分] | 4500 | 6500 | |||
| 最小L/S解像度（ピッチ/2） | 2.0 | 3.5 | |||
| CD均一性 3σ [nm] | 60 | 80 | |||
| 位置精度 3σ [nm] | 140 | 150 | |||
| 重ね精度 3σ [nm] | 100 | 120 | |||
| 最大マスクサイズ [mm] | 1400x1620 | ||||
| FPS 6100 Evo | |||||||||
| 描画レベル | Lvl 80 | Lvl 60 | Lvl 40 | Lvl 25 | Lvl 20 | Lvl 15 | |||
| 描画速度 [mm²/分] | 525 | 1250 | 2600 | 6000 | 8000 | 12000 | |||
| 最小L/S解像度（ピッチ/2） | 0.75 | 1.2 | 2.0 | 3.5 | 5.0 | 7.0 | |||
| CD均一性 3σ [nm] | 30 | 40 | 60 | 80 | 100 | 200 | |||
| 重ね精度 3σ [nm] | 70 | 85 | 100 | 120 | 140 | 160 | |||
| 最大マスクサイズ [mm] | 813x813* | ||||||||
| FPS 6100E Evo | Lvl 25 | Lvl 20 | Lvl 15 |
| 描画速度 [mm²/分] | 5000 | 8000 | 12000 |
| 最小L/S解像度（ピッチ/2） | 6.0 | 8.0 | 12.0 |
| CD均一性 3σ [nm] | 600 | 700 | 900 |
| 重ね精度 3σ [nm] | 120 | 140 | 160 |
| 最大マスクサイズ [mm] | 813x813* | ||
* 描画エリア拡張機能の追加により、1100x1100 または 900x1200 まで可能（オプション）
多数のオプションをご用意しております。これらのオプションを追加することで、お客様のご要求に正確に適合できる装置にすることが可能です。オプションは、既に設置されている マイクロニックのマスク描画装置FPS6100へも追加可能です。
エレクトロニクス業界で40年以上市場をリードしてきたマイクロニックにお任せください。市場での急速な変化を理解し、お客様のご要望に迅速に対応するために世界50カ国以上でビジネスを展開しています。お客様及び我々のミッション実現のために先進のテクノロジーをご提供します。
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