超高精細スマートフォンディスプレイ

すべてのピクセルを大切に


課題

近年、ディスプレイはいたるところで使用されており、その生産量は数十億台を数えるでしょう。それでもなお、ディスプレイへの画質向上の要求はかつてないほど増えています。

新世代スマートフォンの場合、各メーカーはこれまでにないほどの高解像度を持つ大画面ディスプレイや有機ELディスプレイの搭載によって消費者を魅了し、競争を勝ち抜こうとしています。

こうした傾向が、スマートフォンディスプレイ用のフォトマスク製造に、新たに高度な課題をもたらしています。

その課題とは

  • パターン構造が極めて微細化したため、フォトマスク製造はムラに対してより敏感になりました。個々のフォトマスクが良好であっても、ディスプレイは複数のフォトマスクの組み合わせで製造されるため、ムラが突然現われることがあります。
  • トランジスタの微小化が解像限界に到達し、線幅の微小なバラツキでさえも重大な影響をもたらします。
  • フォトマスク描画の長時間化により、動作、温度、圧力制御において高い安定性が新たな課題となることから、マルチパス描画が必要となるでしょう。

ソリューション

幸いなことに、マスク描画装置Prexision 800 EvoまたはPrexision 80 Evoとマスク測定装置Prexision MMS Evoで製造されたフォトマスクを使用すれば、メーカーはより高品質なディスプレイが生産可能となり、そのディスプレイを採用した新しいスマートフォンによって競合製品と差をつけることができます。

マイクロニックのPrexisionシステム群は驚異的な性能を誇っています。

Prexision 800 Evo
  • 最もハイエンドなパネル製造用の最先端フォトマスクのために設計
  • 25%向上した解像度による高度なパターン忠実性が極小のSRAF(補助パターン)およびOPCを可能に
  • 卓越したCD制御がトランジスタの均一な電気特性を確保
  • 第8世代ガラス基板用フォトマスクまで対応可

 

Prexision 80 Evo
  • 「目に見えない」ムラに対処するために改良された描画位置精度性能
  • 改良された最小線幅性能により、より微細なパターンの描画が可能
  • 描画性能全体が向上すると、マルチパスやより大きなストライプ幅を維持するオプションは今までより不要に
  • 第8世代ガラス基板用フォトマスクまで対応可

 

Prexision MMS Evo

Prexision 80 Evoの性能を最大限に引き出すには、安定した較正基準と方法が必要不可欠です。Prexision MMS Evoを開発した理由はここにあります。

この高い安定性を持つ測定装置の導入により、お客様の生産ラインのすべてのレーザーマスク描画装置の座標系を、同一基準に合わせることが可能になります。結果としてお客様の生産計画に高い柔軟性と効率性をもたらします。

  • Prexision 80 Evoの性能を最大限に引き出すことが可能
  •  お使いの全レーザーマスク描画装置の高精度キャリブレーションを同一基準で実施
  • より短い時間でのフォトマスク測定が可能

約束

マイクロニックのPrexision 80 EvoとPrexision MMS Evoで、世界最先端の大画面スマートフォン用フォトマスクの製造が可能です。


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