Prexision-MMS

디스플레이 마스크
측정장비

Prexision-MMS

디스플레이 마스크
측정장비

Prexision-MMS

디스플레이 마스크
측정장비

마스크 측정 시스템

품질 검증

포토마스크의 사양 적합성을 검증하려면 마스크의 패턴이 디스플레이 생산 중에 적절히 정렬될 것인가를 입증할 수 있어야 합니다. 이를 위해서는 레이저 마스크 노광기보다 정밀도가 높은 측정 장비가 필요합니다.

Prexision MMS 시리즈는 Evo라는 새로운 최첨단 제어 플랫폼을 기반으로 구축되었으며, 더 높은 제품 수율을 달성하기 위해 마스크 제조 환경에서 자동화, 연결 및 빅데이터 내에서 증가하는 추세를 지원하도록 설계되었습니다. Evo 플랫폼은 업계의 현재 및 미래 요구 사항을 모두 충족시킬 수 있는 완전히 현대적인 소프트웨어 및 전자 아키텍처를 기반으로 합니다. Evo 제어 플랫폼에 대해 자세히 알아보세요.


주요 이점

  • 30%

    REGISTRATION 성능 개선
  • 20%

    마스크와 마스크의 OVERLAY 성능 향상
  • 30%

    측정시간 향상

(이전 MMS 모델과의 비교 - MMS-15000)

  • 최신의 혁신적 Prexision Evo 플랫폼에 기반한 우수한 정확도와 반복성
  • 당사의 독점적 기술을 활용한 향상된 registration 측정
  • 1차 측정 결과를 신뢰할 수 있으므로 보다 빠른 처리 시간
  • Prexision 레이저 마스크 노광기의 모든 잠재력을 활용함

가장 정확한 Prexision Evo 플랫폼 기반의 Prexision MMS Evo는 넓은 면적에서의 registration 측정을 완전히 새로운 수준으로 끌어올렸습니다. 이제 귀사의 포토 마스크가 얼마나 뛰어난가를 정확히 보여 줄 수 있습니다.

측정 시스템의 성능은 정밀한 레이저 마스크 노광기에도 매우 중요합니다. 포토 마스크를 최고 품질로 노광하려면 레이저 마스크 노광기의 성능을 최대한 활용할 수 있어야 하기 때문입니다.

Prexision MMS Evo는 2가지 모델로 출시됩니다. G8모델은 최대 8세대 디스플레이 기판에 사용되는 포토마스크의 측정이 가능하며 G10모델은 최대 11세대 디스플레이 기판에 사용되는 포토마스크의 측정이 가능합니다.


사양

 

  Prexision MMS
G8 Evo
Prexision MMS
G10
Overlay the mask-to-mask 3σ [nm] 40
Registration 3σ [nm] 65
CD repeatability 3σ [nm] 50
The mask size [mm] 1400 x 1620 1700 x 2000


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