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포토 마스크 라이터 FPS 시리즈는 다양한 목적의 제품군에 사용되는 첨단 포토마스크를 제조할 수 있도록 해 줍니다. 첨단 전자 패키징, LED 터치스크린, MEMS, 컬러 필터, 파인 메탈파인 메탈 마스크, 3D 금형 등 요구사항에 따라 다앙한 응용분야에 활용할 수 있도록 유연한 구성이 가능합니다.
FPS 시리즈는 Evo라는 새로운 최첨단 제어 플랫폼을 기반으로 구축되었으며, 더 높은 제품 수율을 달성하기 위해 마스크 제조 환경에서 자동화, 연결 및 빅데이터 내에서 증가하는 추세를 지원하도록 설계되었습니다. Evo 플랫폼은 업계의 현재 및 미래 요구 사항을 모두 충족시킬 수 있는 완전히 현대적인 소프트웨어 및 전자 아키텍처를 기반으로 합니다. Evo 제어 플랫폼에 대해 자세히 알아보세요.
생산 현장에서 검증된 믿을 수 있는 마이크로닉의 모든 마스크 라이터는 다양한 분야의 마스크를 제조할 수 있는 유연성을 가지면서도 뛰어난 운영상의 안정성, 빠른 노광 속도, 로딩 시간 감소 및 CD uniformity를 유지합니다.
가장 최근에 추가된 FPS 8100 Evo은 LCD에서 AMOLED디스플레이로 바뀌어가는 트렌드에 맞추어 개발되었으며, AMOLED는 유기 물질의 증착 공정에 사용되는 메탈 마스크가 필요합니다. 새로운 플랫폼과 추가된 기술로 기존의 제품인 FPS 6100 Evo시리즈보다 노광 속도는 78% 증가하였으며 로딩 시간은 87% 개선되었습니다.
FPS 솔루션의 뛰어난 점은 기존의 제품을 계속해서 제조하면서 동시에 더 넓은 패널 영역, 더 빠른 노광 속도, 더 엄격한 CD 또는 파인 메탈파인 메탈 마스크 제조와 같이 수익성이 뛰어난 새로운 비즈니스를 진행할 수 있다는 것입니다.
FPS 8100 Evo
FPS 8100 Evo은 FPS 컨셉의 유연성을 원하면서도 LED의 미세 가공 기술, 최첨단 전자 패키지 또는 파인 메탈 마스크 응용에 대한 새로운 문제에 직면한 마스크 제조사에게 적합한 하이엔드 솔루션입니다. 까다롭고 어려운 요구를 많이 하는 고객들과 긴밀하게 협력하여 개발된 이 제품은 새로운 플랫폼을 기반으로 하며, 이전 모델과 비교했을 때 안전성(생산성 산출량 기준), 로딩 시간 감소, 다양한 목적의 제품군을 위한 속도 증가 등 새로운 성능 향상 기술이 포함되었습니다.
이 시스템은 두 가지의 광학 레벨로 구성되었으며, 종전의 FPS 6100 Evo 시리즈와 비교했을 때 로딩 시간이(최대 1,400 mm x 1,620 mm; 최대 8세대 디스플레이를 위한 파인 메탈 마스크)이 87% 감소했습니다. 이는 LCD에서 더 좋은 이미지 품질, 더 얇은 디스플레이, 더 높은 에너지 효율을 갖는 AMOLED 디스플레이로 전환하는 트렌드에 맞게 설계되었습니다. 이 기술은 구부릴 수 있는 디스플레이 제조에도 사용할 수 있습니다.
그러나, AMOLED의 더 높아진 요구사항을 만족하기 위해서는 최첨단의 포토마스크가 필요합니다. 1-2개의 트랜지스터가 필요한 LCD에 비해 AMOLED는 5-6개의 트랜지스터로 각 픽셀을 컨트롤하기 때문입니다. 이는 각 픽셀에 더 작고 더 정밀한 유기물의 증착이 필요합니다. 이는 오직 FPS 8100 Evo으로만 만족할 수 있습니다. 이와 같은 특정 사항을 만족시킴과 동시에 그 밖의 많은 응용제품의 노광도 또한 가능합니다.
FPS 6100 Evo / FPS 6100E Evo 시리즈
이미 검증되어 믿을 수 있는 FPS 6100 Evo/FPS 6100E Evo은 세계 유수의 선도 포토 마스크 제조업체에서 첨단 다목적 제품군에 필요한 위한 우수한 이미지 품질과 생산성을 달성하는 데 사용됩니다. 두 가지의 다른 레이저 소스로 구성할 수 있어 이 시리즈의 라이터로 크롬 또는 에멀전 포토마스크에 사용할 수 있습니다.
FPS 6100 Evo은 기존의 FPS5500과 비교하여 더 빠른 노광 속도와 향상된 이미지 품질을 제공합니다. 새롭게 개발된 XT 모드 옵션으로 기존 모델과 비교했을 때 최대 76% 더 빠른 노광 속도를 갖습니다. 또한 오늘날의 까다로운 요구사항을 충족시키기 위해 40%나 향상된 CD uniformity를 얻을 수 있습니다.
FPS 6100E Evo에는 에멀젼 마스크를 노출할 수 있는 녹색 레이저가 탑재되어 있습니다. 이 시스템은 동일한 Evo 제어 플랫폼에 구축되었으며, 따라서 FPS 시리즈의 모든 기존 장점을 유지할 수 있습니다.
| FPS 8100 Evo | |||||
| Writing levels | Lvl 40 | Lvl 25 | |||
| Writing speed [mm²/min] | 4500 | 6500 | |||
| Minimum L/S resolved (pitch/2) | 2.0 | 3.5 | |||
| CD Uniformity 3σ [nm] | 60 | 80 | |||
| Registration 3σ [nm] | 140 | 150 | |||
| Overlay 3σ [nm] | 100 | 120 | |||
| Max. mask size [mm] | 1400x1620 | ||||
| FPS 6100 Evo | |||||||||
| Writing levels | Lvl 80 | Lvl 60 | Lvl 40 | Lvl 25 | Lvl 20 | Lvl 15 | |||
| Writing speed [mm²/min] | 525 | 1250 | 2600 | 6000 | 8000 | 12000 | |||
| Minimum L/S resolved (pitch/2) | 0.75 | 1.2 | 2.0 | 3.5 | 5.0 | 7.0 | |||
| CD Uniformity 3σ [nm] | 30 | 40 | 60 | 80 | 100 | 200 | |||
| Overlay 3σ [nm] | 70 | 85 | 100 | 120 | 140 | 160 | |||
| Max. mask size [mm] | 813x813* | ||||||||
| FPS 8100 Evo | Lvl 25 | Lvl 20 | Lvl 15 |
| Writing speed [mm²/min] | 5000 | 8000 | 12000 |
| Minimum L/S resolved (pitch/2) | 6.0 | 8.0 | 12.0 |
| CD Uniformity 3σ [nm] | 600 | 700 | 900 |
| Overlay 3σ [nm] | 120 | 140 | 160 |
| Max. mask size [mm] | 813x813* | ||
* 최대마스크사이즈 1100xx1100 과 900x1200로 확장가능 (옵션)
고객의 요구사항을 정확히 준수할 수 있는 설비를 갖출 수 있도록 다양한 옵션 기능이 준비되어 있습니다. . 이런 옵션들은 기존에 설치된 FPS6100 시스템을 위한 성능향상옵션 (VAP, Value Added Product) 제품으로도 이용할 수 있습니다.
전자 산업분야에서 40년 이상 동안 시장의 독보적인 선두주자로서 자리매김 해왔습니다. 저희는 시장의 빠른 변화를 이해하고 최상의 고객 지원을 위하여 50개국에 걸쳐 지사와 대리점을 운영하고 있습니다. 저희는 고객과 저희의 사명을 이룰 수 있고 미래에도 경쟁력을 갖춘 기술을 제공합니다.
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