Серия FPS

Гибкость
производительность
стабильность

Серия FPS

Гибкость
производительность
стабильность

Серия FPS

Гибкость
производительность
стабильность

Изготовление многоцелевых фотошаблонов

открывает непревзойдённую гибкость

Наши генераторы изображений серии FPS предназначены для стабильного, высокоскоростного и экономичного изготовления передовых многоцелевых фотошаблонов. В зависимости от требований, возможна гибкая настройка в широком диапазоне применения, например, для высокотехнологичного корпусирования электронных схем, светодиодных сенсорных экранов, МЭМС, светофильтров, прецизионных металлических масок, 3D-форм и др.

Серия FPS разработана на основе новой передовой платформы управления Evo, в соответствии с набирающими силу тенденциями автоматизации, связи и больших данных в области изготовления фотошаблонов с целью повышения производительности. Платформа Evo создана на базе полностью современной архитектуры программного обеспечения и электрооборудования, и отвечает современным и перспективным отраслевым требованиям. Узнайте больше о платформе управления Evo.

Все наши генераторы изображений доказали свою надёжность в условиях эксплуатации и подходят для различных областей применения масок, обеспечивая превосходную эксплуатационную стабильность, высокие скорости и большие объёмы записи, а также равномерность критического допуска на размер элементов, которые необходимы, чтобы соответствовать строгим отраслевым требованиям.

FPS 8100 Evo — новинка в нашей серии, специально разработана в соответствии с набирающей силу тенденцией перехода от ЖК- к AMOLED-дисплеям, что требует использования металлизированных фотошаблонов для процесса осаждения органических материалов. Новая платформа и технологии позволяют увеличить скорость и площадь записи на 78% и 87%, соответственно, по сравнению с нашей широко известной серией FPS 6100 Evo.

Преимущество решений FPS состоит в возможности продолжать выпуск текущего ассортимента продукции и одновременно искать перспективные решения, для которых могут требоваться более крупные панели, более скоростная запись, более строгий критический допуск на размер элементов и даже изготовление прецизионных металлических масок.


Основные преимущества

  • Гибкость
    Широкие возможности конфигурации продукции
  • Производительность
    Режим XT повышает скорость записи
  • Стабильность
    Непревзойденное время беспрерывной работы системы
  • До шести разных уровней записи и различные варианты загрузки
  • Возможность комплектации двумя разными источниками лазерного излучения позволяет производить экспонирование через хромированные или эмульсионные фотошаблоны
  • Площадь экспонирования для фотошаблонов размером до G8
  • Режим XT (eXtreme Throughput) увеличивает скорость записи на 76%
  • С момента первой установки системы время беспрерывной работы поддерживается на уровне более 95%

FPS 8100 Evo

FPS 8100 Evo — наше высокотехнологичное решение для производителей фотошаблонов, которым требуются не только все широкие возможности серии FPS, но и решение новых задач, связанных с микропроизводством светодиодов, высокотехнологичным корпусированием электронных схем или использованием прецизионных металлических масок. Серия разработана в тесном сотрудничестве с требовательными клиентами на основе новой платформы и ряда улучшающих эксплуатационные характеристики новых технологий, которые повышают стабильность (производительность), увеличивают скорость и площадь записи в различных областях применения, по сравнению с предыдущими моделями.

В системе предусмотрено два оптических уровня, площадь записи увеличена на 87% (до 1400 х 1620 мм, прецизионные металлические маски подходят для размера дисплеев до 6 поколения), по сравнению с более ранней серией FPS 6100 Evo. Прежде всего, система отвечает тенденции технологического перехода с ЖК- на AMOLED-дисплеи, что повышает качество изображения и позволяет выпускать более энергосберегающие тонкие дисплеи. Эта же технология подходит для выпуска гибких дисплеев.

В то же время новые более высокие требования AMOLED также подразумевают использование более совершенных фотошаблонов, поскольку каждый пиксель контролируется 5-6 транзисторами, по сравнению с 1-2 транзисторами в ЖК-дисплеях. Требуется более точное осаждение органических материалов меньшего размера в каждый пиксель — новая задача, с которой непревзойдённо справляется FPS 8100 Evo. Помимо этой достаточно специфической задачи система также позволяет решать и многие другие задачи записи.

Серия FPS 6100 / FPS 6100E Evo

Некоторые ведущие мировые производители фотошаблонов с помощью доказавшей свою эксплуатационную надежность системы FPS 6100 Evo/FPS 6100E Evo получают превосходное качество изображения и повышают производительность, решая высокотехнологичные многоцелевые задачи. Установки этой серии с возможностью комплектации двумя разными источниками лазерного излучения позволяют производить экспонирование через хромированные или эмульсионные фотошаблоны.

Модель FPS 6100 Evo отличается повышенной скоростью записи и качеством изображения, по сравнению с предыдущей FPS5500. Благодаря новой разработке режима XT запись может выполняться на 76% быстрее, чем на предыдущих моделях. Вместе с тем, на 40% улучшена равномерность критического допуска на размер элементов, что соответствует современным высоким требованиям.

FPS 6100E Evo комплектуется зелёным лазером, позволяющим производить экспонирование через эмульсионные фотошаблоны. Система создана на базе той же платформы управления Evo, то есть обладает всеми преимуществами серии FPS.


Технические характеристики

 

FPS 8100 Evo    
Уровни записи Lvl 40  Lvl 25
Скорость записи [мм²/мин] 4500 6500
Минимальное разрешение строчного интервала (шаг/2) 2,0 3,5
Равномерность критического допуска на размер элементов 3σ [нм] 60 80
Совмещение 3σ [нм] 140 150
Наложение 3σ [нм] 100 120
Макс. размер маски [мм]     1400x1620

 

FPS 6100 Evo            
Уровни записи Lvl 80 Lvl 60 Lvl 40 Lvl 25 Lvl 20 Lvl 15 
Скорость записи [мм²/мин] 525 1250 2600 6000 8000 12000
Минимальное разрешение строчного интервала (шаг/2) 0,75 1,2 2,0 3,5 5,0 7,0
Равномерность критического допуска на размер элементов 3σ [нм] 30 40 60 80 100 200
Наложение 3σ [нм] 70 85 100 120 140 160
Макс. размер маски [мм]     813x813*

 

FPS 6100E Evo Lvl 25 Lvl 20 Lvl 15 
Скорость записи [мм²/мин] 5000 8000 12000
Минимальное разрешение строчного интервала (шаг/2) 6,0 8,0 12,0
Равномерность критического допуска на размер элементов 3σ [нм] 600 700 900
Наложение 3σ [нм] 120 140 160
Макс. размер маски [мм]     813x813*

* Предусмотрена возможность работать с масками увеличенного размера до 1100x1100 и 900x1200


Дополнительные возможности

Благодаря дополнительным возможностям система может комплектоваться в точном соответствии с требованиями ваших клиентов. Этими дополнительными функциональными возможностями могут комплектоваться уже установленные системы FPS6100.

 


Услуги


Лучший партнёр для вас

Мы работаем в электронной промышленности уже более 40 лет, у нас уникальное лидерство на рынке, поэтому вы можете рассчитывать на нас. Мы понимаем стремительные изменения рынка. У нас надёжные позиции на местах в более чем 50 странах мира, где мы помогаем нашим заказчикам. Мы поставляем инновационные технологии для завтрашнего дня, и мы преданы нашей миссии и нашим клиентам.


Обратная связь

Есть вопросы? Нужна более подробная информация о конкретной услуге или продукте? Мы всегда готовы помочь. Заполните форму ниже, и мы свяжемся с вами.

Необходимо правильно указать адрес электронной почты
Необходимо ввести сообщение