Серия SLX 

Интеллектуальные
решения

 

Серия SLX 

Интеллектуальные
решения

 

Серия SLX 

Интеллектуальные
решения

 

Готовы к быстрым темпам развития

полупроводниковой промышленности

Появившись вследствие растущего спроса на бытовую электронику, лазерные генераторы изображений SLX стали ответом на мощное расширение сферы применения интеллектуальных решений: в товарах широкого потребления, автотранспортных средствах, устройствах Интернета вещей, медицинских устройствах, а также промышленном технологическом оборудовании, если назвать всего несколько примеров. Это стимулирует спрос на фотошаблоны для сложных полупроводниковых узлов вследствие большого разнообразия конструкций и чувствительности серийного производства к колебаниям цен. Промышленность предпочитает использовать лазерные генераторы изображений ввиду более низкой удельной стоимости экспозиции (на маску), таким образом, 70 и 75% всех фотошаблонов производятся по лазерной технологии, и лазерной лазерные генераторы изображений провозглашены основой полупроводниковой промышленности.

Однако лазерные генераторы изображений, используемые сегодня, морально устаревают, тормозя темпы производства и утяжеляя его себестоимость, а следовательно, перестают эффективно выполнять свою задачу.

Mycronic решает эту задачу, выпуская на рынок серию SLX − новое поколение экономически эффективных лазерных генераторов изображений − с современной архитектурой, обеспечивающей стабильную и надежную работу системы.

Mycronic SLX series photomask equipment

Лучший выбор для экономически эффективного производства

Mycronic занимает уникальные позиции в качестве поставщика самых передовых генераторов изображений в мировой индустрии производства дисплеев. Для фотошаблонов, используемых в производстве дисплеев, быстрая скорость записи с гарантированным качеством на всей площади фотошаблона имеет решающее значение, поскольку размер маски в 50-100 раз больше по сравнению с размером фотошаблонов, используемых в полупроводниковой промышленности. Используя ту же технологию многолучевой записи от самого продвинутого генератора изображений mycronic для фотошаблонов для дисплеев, серия SLX способна выполнять экспозицию 6” фотошаблона всего за 20 минут − и с гарантированным качеством. К тому же, в серии SLX используется твердотельный лазер, сокращая тем самым эксплуатационные расходы за счет снижения энергопотребления. Серия SLX представляет собой лучший выбор системы для чувствительного к колебаниям цен производства сложных полупроводниковых узлов.

Mycronic SLX series photomask epuipment

Новая современная наращиваемая архитектура

Чтобы соответствовать тенденциям рынка электроники, полупроводниковая промышленность постоянно развивается, и индустрия фотошаблонов должна учитывать эти тенденции. Однако лазерные инструменты, используемые в этой отрасли, устарели, и их трудно поддерживать в надлежащем состоянии. Серия SLX построена на самых современных платформах программного и аппаратного обеспечения, что обеспечивает гибкость поддержки в быстро меняющемся мире и дает возможности для дальнейшей разработки функциональности с прицелом на удовлетворение будущих потребностей клиентов. Таким образом, SLX будет развиваться в ногу со временем, и в будущем на основе той же платформы будут выпускаться усовершенствованные и более быстрые модели.

SLX series ultimate system reliability

Доступ к квалифицированному сервису с первого дня

Серия SLX задействует платформу управления Evo, также используемую для других генераторов изображений Mycronic. Это означает, что наша квалифицированная сервисная организация с присутствием на местах готова осуществлять поддержку серии SLX с первого же дня после установки системы, позволяя максимально повысить техническую готовность и беспрерывную работу системы, и оптимизировать ее производительность, что невозможно для устаревших систем на выезде, в полевых условиях.


Основные преимущества

  • Экономичность
    низкая стоимость владения
  • Долговечность
    архитектура на современной платформе, проверенной в условиях эксплуатации
  • Надежность
    доступ к квалифицированному инженерному сопровождению с первого дня

Технические характеристики

SLX 1 e1

Проходы 2P 1P
Скорость записи* ~40 мин ~20 мин
Равномерность критического допуска на размер элементов (3σ) 25 нм 35 нм
Совмещение (3σ) 30 нм 40 нм
Размер маски 5”~12”  

SLX 2 e1

Проходы 3P 2P 1P
Скорость записи* ~97 мин ~64 мин ~32 мин
Равномерность критического допуска на размер элементов (3σ) 12 нм 15 нм 20 нм
Совмещение (3σ) 20 нм 25 нм 30 нм
Размер маски  5”~9”    

SLX 3 e1

Проходы 3P 2P 1P
Скорость записи* ~169 мин ~113 мин ~56 мин
Равномерность критического допуска на размер элементов (3σ) 10 нм 12 нм 20 нм
Совмещение (3σ) 20 нм 25 нм 30 нм
Размер маски 6”    

*Estimate exposure time for 6” mask area


Брошюра


Обратная связь

Необходимо правильно указать адрес электронной почты
Необходимо ввести сообщение