半導体用マスク描画装置SLXを受注

2024年2月5日 - Mycronic AB（マイクロニック、本社：スウェーデン、日本法人：マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長：呉 健治）は本日、フォトマスク描画装置SLXをアジア地域の半導体の新規顧客から受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は700～900万USドルで、2024年第4 四半期に納入予定です。

レーザーマスク描画装置SLXは、半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの大半がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。エネルギー効率の良い最新の半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。

マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント：
「弊社はSLXの進化に投資し続けることに尽力しているため、お客様が新たな戦略的開発プロジェクトにSLXをご選択された今回の受注は、弊社にとって大きな誇りです。」

マイクロニックはディスプレイ製造用および半導体製造用のマスク描画装置を提供しています。