半導体用マスク描画装置SLXを受注

2026年4月14日 - Mycronic AB（マイクロニック、本社：スウェーデン、日本法人：マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長：呉 健治）は本日、特別仕様のフォトマスク描画装置SLXを新規顧客から受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は2,700～3,000万USドルで、2028年に納入予定です。

レーザーマスク描画装置SLXは、半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの大半がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。エネルギー効率の良い最新の半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。

マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント：
「SLX は、高い信頼性と強力な性能を備えるよう設計された、最新かつ安定したプラットフォームです。今回の受注により、弊社はこのプラットフォームをさらに拡張し、性能向上を追求し続ける姿勢を改めて示すことになります。今回受注の装置にはカスタマイズされた開発が含まれており、それが価格水準および長納期の理由です。」

マイクロニックの PG 事業部はディスプレイ製造用および半導体製造用のマスク描画装置とマスク座標測定装置を提供しています。