半導体用マスク描画装置SLXを2台受注

2026年10月14日 - Mycronic AB（マイクロニック、本社：スウェーデン、日本法人：マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長：呉 健治）は本日、フォトマスク描画装置SLXを米国の顧客から2台受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は1,400～1,600万USドルです。2 台とも 2028 年第1 四半期に納入予定です。

レーザーマスク描画装置SLXは、半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの大半がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。エネルギー効率の良い最新の半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。

マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント：
「SLXプラットフォームの優れた性能、生産性、信頼性に加え、お客様との長年にわたる緊密な協力関係により、最先端半導体業界を支えるSLXマスク描画装置の導入実績を着実に拡大し続けることができています。」

マイクロニックの PG 事業部は、ディスプレイ製造および半導体製造向けに、マスク描画装置、マスク座標測定装置、検査装置、修正装置を提供しています。